
台積電2奈米製程營業機密外洩案,最高法院今(30)日下午駁回主謀陳力銘及在職工程師陳韋傑的上訴,兩人分別判刑10年、6年定讞。另兩名涉案工程師吳秉駿、戈一平因未提起上訴,已分別依3年、2年徒刑先行定讞。
本案源於檢方去年接獲台積電通報,發現有工程師涉嫌竊取2奈米製程機密。檢方追查發現,曾在台積電任職8年、後轉任日商東京威力科技(TEL)行銷部門的陳力銘,利用昔日同事情誼,聯繫仍在台積電任職的學弟吳秉駿、戈一平,由兩人透過遠端登入台積電內部系統,並拍攝筆電螢幕方式,大量翻拍機密資料交付陳力銘。
檢方認定,陳力銘、吳秉駿及戈一平侵害國家核心關鍵技術,犯罪情節重大,依法聲請羈押獲准,並於去年8月底依《國家安全法》及《營業秘密法》等罪嫌起訴。
檢方另查出,台積電工程師陳韋傑涉嫌竊取14奈米以下IC製程技術,以及關鍵氣體、化學品與設備等機密資訊交付陳力銘;東京威力科技行銷主管盧怡尹則涉嫌協助湮滅犯罪證據。檢方認定東京威力科技監督管理不周,因此將公司一併追加起訴。
智慧財產暨商業法院今年4月一審宣判,陳力銘判刑10年、陳韋傑判刑6年,兩人均續押;吳秉駿判刑3年、戈一平判刑2年;盧怡尹因湮滅證據判刑10月、緩刑3年。東京威力科技則因違反《營業秘密法》,遭判罰金1億5千萬元,惟因已與台積電達成和解,法院宣告緩刑3年,條件包括支付台積電1億元及向公庫支付5千萬元。
一審宣判後,陳力銘、陳韋傑及盧怡尹提出上訴;吳秉駿、戈一平及東京威力科技則未上訴而先行定讞。最高法院今日駁回陳力銘、陳韋傑上訴,兩人刑期正式定讞;至於盧怡尹部分,目前仍由法院審理中。
這起案件從偵辦到定讞歷時逾一年,涉及台積電最先進2奈米製程技術外流,也再次凸顯台灣半導體核心技術保護,以及高科技產業營業秘密管理的重要性。
(圖片來源:AI生成)










